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現在の都市ごみの中では、紙もダイオキシンの大きな発生源となっている。
木材チップの中には、紙の素材となるセルロースと、紙にとっては余分な成分である油状のリグェンが含まれている。
このリグユンを分解するために、木材チップをアルカリ溶液中で長時間加熱分解し、その後にわずかに残るリグニンを塩素や二塩化酸素を用いて酸化分解をする。
そういう工程で、紙の中に可燃性塩素ができ、それが原因となって紙から比較的多くのダイオキシンが発生してくるのではないかと考えられている。
つぎに、衣服の防虫剤であるパラニ塩化ベンゼンを試験管内で加熱すると、ダイオキシンをはじめとして非常に多くの化合物が生成することが、私たちの実験でも明らかになっている。
代表的なものとしては、ポリ塩化ベンゾエトリル、ポリ塩化クレゾール、ポリ塩化フェノール、ポリ塩化ナフタレン、ポリ塩化ビニリデンというようなダイオキシンとは関係のない塩素化合物も多く出てくる。
この反応過程では、純粋にはポリ塩化ベンゼンが反応すると、四塩化ビフェニル(TCB)ができ、そこからPCDFができてくる。
もう一つのルートとしては、二塩化ベンゼンが酸化されて二塩化フェノール、そして二塩化ジペンゾーパラージオキシン(DCDD)という反応が想定される。
しかし、三塩化フェノールとか、もっと塩素の多いフェノール類も見つかつているし、PCBにしても四塩化ビフェニルよりもっと塩素の多いものが見つかつている。
そうすると、ふつうの合成反応ではなく、分解反応ではずれた塩素が付加してくるというような、合成と分解反応が同時に進行していると考えられる。
このように、予期しないものが非常に多くできてくるのが燃焼反応である。
国立環境研究所の研究でも、ポリ塩化ビニリデンというラップに使われた素材を加熱すると非常に多くのものが生成している。
三〜五塩化ブタジエン、一〜四塩化トルエン、一〜二塩化フェノール、一〜四塩化ナフタレン、一〜四塩化ジベンゾフラン、一〜四塩化ベンゼン、一〜四塩化スチレン、二圭二塩化フェニルアセチレン、一〜六塩化ビフェニルなどである。
一〜六塩化ビフェニルの中には、異性体が一〇〇もある。
さらに、塩素の入っていないスチレン、ナフタレン、メチルフェニルアセチレン、ベンズアルデヒド、ベンゾフランというようなものも非常に多く出てくる。
このことから、燃焼は、純粋に考えられる合成反応と、予期しない分解反応が同時におこりながら、瞬間的にそれが進行していく。
結果として、ポリ塩化ビニリデンの場合には、一〇〇〇種類以上の化合物が容易に生成する。
以上いくつかのダイオキシン発生抑制技術を述べたが、それ以外にもつぎのような技術もさかんに使われている。
粉末活性炭をろ過式集じん機に吹きこむ方法である。
推積ダスト層でのダイオキシン吸着効果を高めることができる。
通常、一排ガスあたり〇・一〜〇・五gを吹きこむ。
集塵機の後に活性炭吸着塔を設置する方法である。
粉末活性炭の吹きこみと同様に、ダイオキシンを吸着塔内の活性炭で吸着除去することができる。
チタンやバナジウムなどによる酸化触媒などを充填した触媒塔を集じん機の後方に設置する方法である。
ここでは、ダイオキシンを酸化触媒で分解することができる。
漂白による反応もある。
とくに有名なのは、紙パルプの製造工場における反応である。
紙パルプの製造工程で、排水中にダイオキシンが多量に出てくることが、アメリカやカナダで一九八〇年代後半すでにわかつていた。
その後、研究が進められ、ダイオキシンの発生源になる物質がわかつてきた。
一つは、使われる水だった。
水の中には草木の腐葉土由来のフミン(腐植質)、それがさらに分解した土壌成分が含まれている。
その中にPCDFの骨格になるジベンゾフランが主成分として含まれていた。
パルプの製造過程に使われる水の中にあるジベンゾフランが、塩素漂白によって塩素が付加してくるということがわかつている。
もう一つ、ダイオキシンのもとになってくるのは、木材チップからリグユンをとりのぞく蒸解過程に使われる消泡剤である。
アルカリを加えて加熱していく蒸解過程において非常に泡立つため、消泡剤が使われている。
この消泡剤にPCDDの骨格であるジベンゾパラジオキシンが含まれていた。
これが漂白過程において塩素化され、そしてできたPCDDがパルプ排水の中に入り、紙の中にも含まれることになる。
そして、製紙工場では汚泥の中にも含まれていることが明らかにされている。
ところが、漂白過程でできるダイオキシンは、燃焼過程でできるダイオキシンと大きくちがっていて、塩素のつく位置が、毒性の強い二、三、七、八の位置を中心としている。
これは「漂白パターン」とよばれている。
漂白過程からは、主として二、三、七、八−TCDD、二、三、七、八−TCDFができてくるのである。
つまり、毒性の強いものが主体であり、ほかの異性体は非常に少ない。
一方、焼却場の場合には、TCDDは二二種類の異性体かおるが、すべてのものが出てきて、むしろ二、三、七、八−TCDDは微小な成分になっている。
TCDFは三八種類の異性体があるが、この場合もやはり二、三、七、八−TCDFはマイナーな成分である。
こういうように多くの異性体を含み、毒性の強いものが少ないのが「焼却パターン」といわれる。
ルの水の殺菌の問題である。
現在調査実態はわからないが、すでに述べたように水道水の中にはPCDFのもとになる骨格があるために、塩素漂白がさかんにされているところでは、毒性の強いダイオキシンの生成が懸念されてくるのである。
その他の生成メカニズムについて述べる。
比較的有名なのが、塩素製造工場である。
ここでは食塩(塩化ナトリウム)を電気分解して、塩素と水酸化ナトリウムをつくる。
塩素が非常に強い酸化作用と塩素付加作用をもつために、反応槽はゴムなどの有機物でおおわれている。
それをライニング材という。
ところが、塩素がライニング材と反応してダイオキシンができてくる。
そして、排水汚泥に高濃度のダイオキシンが含まれることになる。
また、グラファイト電極の場合、コールタールなどが結合材として使われており、この結合材に含まれる多核芳香族炭化水素が塩素と反応してダイオキシンが生成すると考えられている。
アルミニウムの精錬工場でもダイオキシンが生成してくる。
そこでは、アルミの中の気泡を抜くために、脱気剤として六塩化エタンが使われている。
アルミは気泡が入りやすく、気泡が入ると粗悪な製品になるために、塩素を含む比較的沸点の低い六塩化エタンで脱気する。
脱気はもちろん高温でおこなわれるので、六塩化エタンが高温で燃えるという状況になる。
そのためにいろいろな塩素化合物が発生している。
六塩化エタンは世界全体で約三五〇〇トン使われており、その約〇・一%が八塩化スチレンに変わる。
八塩化スチレンは塩素を含む化合物で、アルミ精錬工場の人に貧血や肝臓障害をおこしている。
アルミ精錬工場では同時に、八塩化スチレンの約六倍の塩化ベンゼンができてくる。
その約一〇〇〇分の一がダイオキシンの濃度である。
このように、アルミ精錬工場では、六塩化エタンが高温に加熱されることによって、多量のダイオキシンが発生することが明らかにされている。


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